摘要
HM-ENS系列電磁噪聲抑制片由微米級(jí)片狀合金軟磁粉與聚合物混合、分散、壓延而成,在同一平面按照同一方向相互重疊,形成核殼結(jié)構(gòu),有害電磁噪聲與吸收介質(zhì)發(fā)生電磁共振以及渦流損耗,轉(zhuǎn)化成熱量,進(jìn)而改善電磁環(huán)境。
產(chǎn)品介紹
HM-ENS系列電磁噪聲抑制片產(chǎn)品特性
HM-ENS系列電磁噪聲抑制片由微米級(jí)片狀合金軟磁粉與聚合物混合、分散、壓延而成,在同一平面按照同一方向相互重疊,形成核殼結(jié)構(gòu),有害電磁噪聲與吸收介質(zhì)發(fā)生電磁共振以及渦流損耗,轉(zhuǎn)化成熱量,進(jìn)而改善電磁環(huán)境。
厚度薄、柔性好,便于模切不同的形狀和尺寸,背膠貼合厚度0.005 mm~0.1 mm。頻率寬、吸收強(qiáng),高磁導(dǎo)率對(duì)鏡面波和表面波具有良好的吸收特性,搭配導(dǎo)電布、鋁箔、銅箔導(dǎo)電材料使用,強(qiáng)化吸收、屏蔽效果,10 MHz~6 GHz具有優(yōu)異的電磁噪聲抑制功能。
HM-ENS系列電磁噪聲抑制片應(yīng)用領(lǐng)域
廣泛應(yīng)用于衛(wèi)星導(dǎo)航、雷達(dá)、無(wú)人駕駛,5G通訊天線(xiàn)、通訊基站、光收發(fā)模塊,NFC天線(xiàn)基板、WPC無(wú)線(xiàn)充電、RFID射頻識(shí)別,芯片、主板、手機(jī)、筆電EMI、數(shù)碼產(chǎn)品、電子觸控屏、數(shù)據(jù)線(xiàn)屏蔽、接口EMC、ETC領(lǐng)域。
HM-ENS系列電磁噪聲抑制片技術(shù)參數(shù)
備注:可以根據(jù)客戶(hù)需求,采取逆向工程即逆向技術(shù),根據(jù)MAXWELL方程,采用遺傳算法(GA),實(shí)現(xiàn)吸波材料仿真(CAD),發(fā)揮吸收介質(zhì)特性設(shè)計(jì),縮短吸波材料研制周期,滿(mǎn)足客戶(hù)對(duì)于HM-ENS系列電磁噪聲抑制片的特定需求.